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2026年最新版EUVマスクブランクス市場展望レポート発表：産業規模・成長要因・投資機会を包括的に分析 Global Reports（東京都中央区）は、「EUVマスクブランクス―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032（QYResearch）に関する最新調査レポートをリリースしました。 【無料サンプルをダウンロード】 www.globalreports.jp/reports/74558/euv-mask-blanks EUVマスクブランク（Extreme Ultraviolet Mask Blanks）とは、極紫外（EUV、波長約13.5 nm）リソグラフィプロセスにおける中核的な光学基板材料を指す。EUVリソグラフィマスク（EUV Mask）の基礎的なキャリアとして、半導体先進プロセスにおいてパターン転写精度の決定的な役割を担っている。EUVマスクブランクは通常、超低欠陥密度の基板（超低熱膨張ガラスまたは単結晶シリコンが主流）、多層反射膜（数十組のモリブデン/シリコン周期構造で構成）、表面緩衝層および保護層で構成され、ブラッグ反射原理によりEUV光に対する高反射率を実現する。EUVリソグラフィは欠陥に極めて敏感であるため、EUVマスクブランクは原子レベルの表面平坦性、極低欠陥密度、優れた熱安定性、長期反射性能安定性といった厳しい要求を満たす必要があり、7nm以下の先進ロジック・メモリプロセスを実現する重要な戦略的材料の一つである。EUVマスクブランクス市場に関するグローバルな最新動向、価格分析、市場規模、企業別シェア、ランキングを詳細に整理